理想能源設備（上海）有限公司致力于開發(fā)和大規(guī)模生產(chǎn)太陽能電池制造設備，為薄膜太陽能電池制造商提供性能最先進、價格最具競爭力、配置靈活的高端制造設備和生產(chǎn)線解決方案服務。公司由20多名20年以上從業(yè)經(jīng)驗的國際化的團隊管理，成員均曾任職于國際知名半導體設備制造企業(yè)，專業(yè)齊全、經(jīng)驗豐富、長于創(chuàng)新、精于管理。

公司業(yè)已投入量產(chǎn)的非晶/微晶疊層硅基薄膜太陽能電池制造設備：低壓化學氣相沉積（LPCVD）設備和等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）設備穩(wěn)定可靠、性能優(yōu)異、產(chǎn)能領先。經(jīng)過內(nèi)部馬拉松試驗和客戶生產(chǎn)線上的驗證，設備的各項指標都達到了世界先進水平。

理想能源最新推出了在線式PECVD設備，可適用于異質(zhì)節(jié)晶體硅太陽能電池的生產(chǎn)或研發(fā)，其穩(wěn)定、可靠的特性尤其適用于高質(zhì)量異質(zhì)節(jié)晶體硅電池的生產(chǎn)。和傳統(tǒng)設備相比，

在線式PECVD設備具有如下優(yōu)勢：

1.創(chuàng)新的在線式鑲嵌式沉積腔設計：在保證薄膜高質(zhì)量、高重復性、高均一性、低損傷的同時，實現(xiàn)高產(chǎn)能（單腔在線設備產(chǎn)能>1200片/小時）；

2.可疊層的產(chǎn)能倍增設計：為適應客戶高產(chǎn)能要求，可實現(xiàn)在線式多層疊加沉積腔設計，產(chǎn)能亦可根據(jù)反應腔層數(shù)實現(xiàn)倍增；

3.甚高頻技術（VHF：40MHz）：甚高頻技術能夠有效降低等離子對基片表面的損傷；

4.優(yōu)化的曲面電極與電介質(zhì)層：解決了引入甚高頻技術所帶來的駐波效應和邊緣效應的問題，使設備在低功率密度下依然保持均勻的電場分布，保證了非晶硅薄膜的低速、均勻、高質(zhì)量生長；

5.無移動元器件等離子體射頻功率匹配系統(tǒng)：傳統(tǒng)的射頻系統(tǒng)匹配時間約 1-3 秒，其過程具有不確定性。而我司自主研發(fā)的無移動元器件等離子體射頻系統(tǒng)匹配時間≤0.5 秒，特別適用于高質(zhì)量異質(zhì)節(jié)晶體硅電池對界面鈍化過程重復、穩(wěn)定、可靠性高的要求；

6.鑲嵌式沉積腔設計：沉積腔鑲嵌在真空腔內(nèi)，上下基板均有獨立的加熱和冷卻系統(tǒng)，使得沉積腔環(huán)境清潔、溫度均勻性高。