美國(guó)應(yīng)用材料（AMAT）在采用圓筒狀濺射靶（旋轉(zhuǎn)式）的濺射裝置“AKT-PiVot 55kV PVD”中追加了銅成膜功能，并在“FPD International 2009”（2009年10月28～30日，太平洋橫濱會(huì)展中心）上發(fā)布。適于形成FPD布線。過(guò)去，AKT-PiVot支持鋁（Al）、鉬（Mo）、ITO等材料，而此次通過(guò)調(diào)整硬件及成膜控制軟件等，能夠形成銅膜。

　　50英寸及60英寸等大屏幕液晶面板支持4K2K（4000像素×2000像素級(jí)別），而且倍速顯示時(shí)，與各像素相連的母線布線延遲給開(kāi)關(guān)動(dòng)作造成的影響增大，極有可能阻礙開(kāi)關(guān)動(dòng)作。因此，F(xiàn)PD廠商正考慮將面板母線由現(xiàn)在的鋁換成電阻值更小的銅。AMAT的此次裝置順應(yīng)了采用銅布線的形勢(shì)。AKT在此次召開(kāi)的產(chǎn)品發(fā)布會(huì)上宣布，支持銅成膜的AKT-PiVot 55kV PVD現(xiàn)已能夠訂購(gòu)，部分客戶(hù)正在對(duì)裝置進(jìn)行評(píng)估。

　　旋轉(zhuǎn)式濺射裝置是在面對(duì)玻璃底板表面的位置呈陣列狀排列多個(gè)圓筒狀濺射靶而制成的。其優(yōu)點(diǎn)是通過(guò)一邊旋轉(zhuǎn)圓筒狀濺射靶一邊濺射，材料能均勻地從濺射靶表面射出。據(jù)AMAT介紹，旋轉(zhuǎn)式濺射裝置能比采用平板型濺射靶的濺射裝置更高效地使用靶材。平板型濺射靶才使用30～40％就不能均勻成膜了，而旋轉(zhuǎn)式用到89％仍能使用（在支持第8.5代玻璃底板的裝置中使用鋁濺射靶時(shí)）。

　　圓筒狀濺射靶的中心部分是空的，此處配備有磁石。濺射時(shí)，在旋轉(zhuǎn)濺射靶的同時(shí)，朝著旋轉(zhuǎn)方向獨(dú)立轉(zhuǎn)動(dòng)磁石，從而改變材料從靶材射出的方向。通過(guò)控制圓筒狀濺射靶的配置方法及磁石的驅(qū)動(dòng)，可以獲得均勻的膜（圖1）。為使其支持銅成膜，該公司更高度地控制了磁石的驅(qū)動(dòng)。AMAT評(píng)價(jià)指出，利用支持第8代玻璃底板的裝置濺射的銅膜，其阻值為2.05μm?cm（膜厚250nm），阻值的誤差為±10.7%，反射率是硅的181.2%，成膜率為13.8nm/s，都能滿足面板廠商的要求。（記者：大久保 聰）

 
圖1　左側(cè)為濺射條件優(yōu)化前，右側(cè)為優(yōu)化后。優(yōu)化前在濺射靶位置可以看到長(zhǎng)方形，而優(yōu)化后長(zhǎng)方形消失。